結合使用等離子處理和旋涂，研究人員可以獲得具有更高穩(wěn)定性和性能的均勻材料涂層。等離子體處理通過引入含有親水性氧的官能團來改變表面化學性質。極性基團使基材可潤濕，并且能夠更好地與水溶液相互作用。等離子處理促進了粘附力并在基材上平滑鋪展。旋涂設備利用離心力來產生水平，均勻的薄膜和涂層。通過試驗轉速和加速度，研究人員可以JINQUE地確定特定的膜厚。旋涂可改善設備質量和專業(yè)外觀。這些工具可以無縫地協(xié)同工作，以在各種基材上提供均勻的膜和涂層。在許多應用中，一致的涂層特性可提高穩(wěn)定性和...

目前，越來越多的原子力顯微鏡被引入到各項研究中，但是相信很多科研人員會發(fā)現(xiàn)，做了幾次樣品后，針尖或者懸臂梁總會有東西粘附上去了，圖像質量和原來的形貌出入太大，沒有多少細節(jié)，甚至出現(xiàn)雙針尖現(xiàn)象，這個時候，被污染的針尖已經嚴重影響到實驗。而AFM探針針尖應該怎樣清洗才合適呢，這個問題一直困擾著科研人員。粒子探針一般采用的是紫外臭氧清洗技術來清洗有機物，紫外臭氧技術*是光子輸出，對探針表面不會造成任何損傷，是一種溫和的清洗方法。PSD和PSDP系列紫外臭氧系統(tǒng)通過產生185nm和2...

鈣鈦礦廣泛用于太陽能電池的開發(fā)。由于這些類型的太陽能電池具有良好的光伏性能，因此對它們進行了系統(tǒng)的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態(tài)是影響太陽能電池性能的重要因素。人們發(fā)現(xiàn)，特別當鈣鈦礦的厚度小于400nm時，鈣鈦礦太陽能電池的效率很大程度上取決于薄膜厚度；而當鈣鈦礦的厚度大于400nm時，效率則很大程度上取決于鈣鈦礦層的薄膜形態(tài)。在本篇方案說明中，我們使用FR-pRoVIS/NIR測量鈣鈦礦薄膜的厚度。FR-pRoVIS/NIR測量方法：用于表征的樣品是兩種不同厚度的CH3NH3...

應用領域Harrick等離子清洗機應用領域廣泛，包括材料科學，聚合物科學，生物醫(yī)學，微流體技術，鈣鈦礦太陽能電池制備，光學器件，顯微鏡，牙科以及其他醫(yī)學研究等。離子表面改性表面改性的好處通過等離子處理來附著或吸附官能團用以處理表面，改變特定應用的表面性能。根據(jù)所使用的工藝氣體來定制引入官能團，然后可以使用適當?shù)臍怏w將表面潤濕性更改為親水性或疏水性。潤濕性的提高，通過改善表面的覆蓋范圍和涂層的延展性以及增強兩個表面之間的附著力，為后續(xù)處理（例如膜的沉積或分子吸附）做好準備。等離...

EDC濕法顯影刻蝕系統(tǒng)光刻膠顯影（KrF/ArF）SU8厚膠顯影顯影后清洗PostCMP清洗光刻膠去除金屬Lift-off處理刻蝕微刻蝕處理新一代的旋轉噴淋式濕法處理機臺，不僅jinque控制試劑注射，還能夠大大節(jié)約試劑，綠色環(huán)保的濕法處理方案。頂蓋閥門控制技術顯影液注射頭的位置我們采用dujia的VoD頂蓋閥門控制技術，確保在基片中心位置垂直向下噴射，確保樣片表面的試劑受力均勻性。VS其他廠商提供的噴射裝置參考如下圖，是從圓弧頂蓋的不同角度傾斜噴射時，樣片收集到的試劑量不均...

據(jù)第三方機構智研咨詢統(tǒng)計，至2022年quanqiu光刻膠市場規(guī)模將超過100億美元。光刻膠按應用領域分類，可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠、半導體光刻膠及其他光刻膠。quanqiu市場上不同種類光刻膠的市場結構較為均衡，具體占比可以如下圖所示。據(jù)智研咨詢的數(shù)據(jù)顯示，受益于半導體、顯示面板、PCB產業(yè)東移的趨勢，2019年中國光刻膠市場本土企業(yè)銷售規(guī)模約70億元，quanqiu占比約10%，發(fā)展空間巨大。目前，中國本土光刻膠以PCB用光刻膠為主，平板顯示、半導體用光刻膠供應...

等離子去膠機是我們在微波等離子處理工藝中的新產品。該批次式晶圓灰化設備成本低廉、尺寸適中，特別適用于工廠、科研院所等領域。等離子去膠機操作規(guī)程：1、自動切割小車應經空車運轉，并選定切割速度；2、使用釷、鎢電極應符合JGJ33-2001第12.7.8條規(guī)定；3、高頻發(fā)生器應設有屏蔽護罩，用高頻引弧后，應立即切斷高頻電路；4、應檢查并確認電源、氣源、水源無漏電、漏氣、漏水，接地或接零安全可靠；5、操作人員應站在上風處操作。可從工作臺下部抽風，并宜縮小操作臺上的敞開面積；6、小車、...