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    • mr-NIL212FC-100nm納米壓印光刻膠 mr-NIL212FC 系列

      光刻膠mr-NIL212FC 系列——專為高精度軟紫外納米壓印設(shè)計(jì)的革命性解決方案 產(chǎn)品核心優(yōu)勢(shì): 快速固化技術(shù)(FC):專為 200 nm 以下微細(xì)結(jié)構(gòu) 優(yōu)化,即使低強(qiáng)度紫外光源(如 LED)也能實(shí)現(xiàn)高效固化,顯著提升生產(chǎn)效率。 Excellence刻蝕穩(wěn)定性:相比標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)(mr-NIL210),對(duì) SiO? 等難刻蝕基材 的兼容性更強(qiáng),圖案轉(zhuǎn)移精度更高。 PDMS 印章最佳搭

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      產(chǎn)品價(jià)格:面議
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      更新日期:2025-07-02
    • mr-NIL212FC德國(guó)納米壓印光刻膠

      高分辨率:支持 <100 nm 結(jié)構(gòu)壓印(如mr-NIL212FC可實(shí)現(xiàn)200nm柱陣列)。 量產(chǎn)適配: UV-NIL:室溫低壓(<100 mbar),適合大面積和連續(xù)生產(chǎn)(R2R)。 T-NIL:熱塑性/熱固性 可選,平衡效率與穩(wěn)定性。 工藝靈活性: 可搭配 LOR 光刻膠實(shí)現(xiàn)金屬納米結(jié)構(gòu)剝離(Lift-off)。 通過(guò) SiPOL 硅含量樹脂實(shí)現(xiàn)圖案放大,用于深槽刻蝕。

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      更新日期:2025-07-02
    • EtchantsTransene二氧化硅 (SiO?) 蝕刻液 光刻膠

      Transene二氧化硅 (SiO?) 蝕刻液 光刻膠,高純度緩沖HF蝕刻劑,適用于熱生長(zhǎng)或沉積的二氧化硅薄膜。Transene二氧化硅蝕刻劑是半導(dǎo)體應(yīng)用的理想選擇,它能夠最小化蝕刻不足的情況,并具有廣泛的兼容性。緩沖氧化物蝕刻劑標(biāo)準(zhǔn)發(fā)貨時(shí)不含表面活性劑。可根據(jù)要求添加非PFAS表面活性劑。

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      更新日期:2025-07-02
    • ??TransistKemLab光刻膠

      KemLab光刻膠 TRANSIST系列產(chǎn)品與大多數(shù)濕法蝕刻液具有出色的兼容性,為微電子應(yīng)用提供可靠、高分辨率的解決方案。TRANSIST提供正性和負(fù)性兩種工作方式的光敏抗蝕劑,

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    • mr-NIL200-100nm納米壓印光刻膠 mr-NIL200 系列

      納米壓印膠 mr-NIL200 系列——專為高精度圖案轉(zhuǎn)移設(shè)計(jì)的紫外光固化解決方案。自粘附配方,無(wú)需底涂,專為硬質(zhì)印章(石英/OrmoStamp®)設(shè)計(jì)。

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    • mr-NIL210-100nm納米壓印光刻膠mr-NIL210系列

      mr-NIL210系列是一款專為軟紫外納米壓印技術(shù)(soft UV-NIL)設(shè)計(jì)的光固化納米壓印膠,特別適配于PDMS類軟質(zhì)印章材料(推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章)。其高精度、易操作的特性,使其成為圖案轉(zhuǎn)移工藝中理想的蝕刻掩模材料。

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