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    • 2024

      8-25

      EDC-650顯影機是為工業和實驗室設計的高效顯影設備,廣泛應用于電子、印刷、醫療和微電子等領域的研究和生產過程中。能夠實現快速、精確的顯影過程,以提高產品質量和生產效率。EDC-650顯影機工作原理:1.材料準備:將涂有光刻膠的基板放入顯影機的輸入槽中,確保基板和顯影液的接觸良好。2.顯影過程:-顯影液通過專用泵送入槽內,形成均勻的液膜;-結合設置的顯影參數(如溫度、時間、流速等),顯影液開始與光刻膠反應,去除未固化區域。3.清洗與沖洗:顯影結束后,自動化系統將基板取出,并...

    • 2024

      7-25

      3850壓實密度儀是一種用于測量土壤、瀝青、混凝土等材料密度和壓實性能的專用設備。是一種重要的實驗儀器,在土木工程、建筑工程、道路工程等領域被廣泛應用。工作原理基于壓實度測量方法,主要用于評估土壤或其他材料在壓實過程中的密實性能。該儀器通過施加一定的壓力或沖擊力,并測量與此相關的參數,如密度、體積、厚度等,從而評估材料的密實程度和壓實效果。通常包括壓實裝置、測量傳感器、數據采集系統等模塊,能夠實現快速、準確地測量和記錄壓實密度數據。3850壓實密度儀的特點包括:1.高精度:該...

    • 2024

      3-24

      NXQ4006光刻機是一種先進的半導體制造設備,用于在半導體芯片制造過程中進行光刻(photolithography)工藝。光刻是半導體制造中至關重要的步驟,通過將光線投射到光刻膠上,再通過光刻膠的顯影和蝕刻,可以在硅片上形成微米級甚至納米級的圖形結構,從而實現芯片上的電路、器件等元件的制造。NXQ4006光刻機具有以下特點和優勢:1.高精度:采用先進的光學系統和自動對焦技術,能夠實現高精度的光刻圖形轉移,確保芯片制造中微細結構的精準度和一致性。2.高速度:光刻工藝是半導體制...

    • 2024

      2-25

      WS1000濕法刻蝕機是一種用于半導體器件制造和研究領域的關鍵設備,主要用于在硅片表面進行刻蝕和清洗處理。采用濕法刻蝕技術,通過將硅片浸泡在特定的化學溶液中,利用化學反應來實現對硅片表面的刻蝕和清洗。在刻蝕過程中,控制刻蝕液的溫度、濃度、流速等參數,可以精確控制刻蝕速率和刻蝕深度,實現對硅片表面的精確加工。WS1000濕法刻蝕機的結構特點:1.反應池:用于裝載刻蝕液和硅片,實現刻蝕和清洗過程。2.溫控系統:用于控制刻蝕液的溫度,確保刻蝕過程的穩定性和可控性。3.流量控制系統:...

    • 2024

      1-25

      3850壓實密度儀是一種用于測量土壤、瀝青、混凝土等材料壓實程度的儀器。通過施加一定的壓力,使材料達到一定的密實度,然后測量其體積和重量,從而計算出材料的壓實密度。壓實密度是衡量材料密實程度的重要指標,對于道路、橋梁、建筑等工程的質量有著重要影響。3850壓實密度儀的特點:1.結構緊湊,操作簡便:采用一體化設計,將主機、壓力傳感器、位移傳感器等集成在一個小型設備中,便于攜帶和操作。同時,儀器配備了大屏幕液晶顯示器,可以直觀地顯示測量數據和操作提示,使得操作更加簡便。2.測量精...

    • 2023

      12-24

      NOVASCAN紫外臭氧清洗機是一款高效、環保的清洗設備,廣泛應用于醫療、食品、飲料、生物制藥等行業。采用紫外光和臭氧雙重殺菌技術,能夠在短時間內有效去除各種表面的細菌、病毒、霉菌等微生物,保證生產環境的潔凈度和安全性。工作原理是利用高能紫外光對微生物進行破壞,使其失去繁殖能力,同時產生臭氧氣體,進一步氧化分解殘留在表面的有機物和無機物,達到清洗的目的。紫外光的波長范圍在200-400納米之間,具有很強的穿透力和殺菌能力,能夠在短時間內殺死各種微生物。臭氧是一種強氧化劑,具有...

    • 2023

      11-26

      WABASH平板硫化機是一種專業用于橡膠硫化的設備,廣泛應用于橡膠制品行業。為一種高效、可靠的橡膠硫化設備,具備高效硫化、穩定性、自動化控制和多功能性等特點。它在橡膠制品行業的汽車工業、電力工業和醫療器械等領域有著廣泛的應用。WABASH平板硫化機的特點:1.高效硫化:采用*技術和設計,能夠實現高效的橡膠硫化過程。其具有均勻的溫度分布和良好的壓力控制系統,確保橡膠制品在硫化過程中獲得高質量的硫化效果。2.穩定性:采用高品質的材料和制造工藝,具有穩定可靠的性能。它能夠長時間運行...

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