邁可諾科研型納米壓印機RD-NIL100，是一款桌面型納米壓印系統。 主要應用于微米或納米結構的壓印成型。

一、納米壓印機應用

1.1 DOE（人臉識別衍射元器件）

可用于制造高精度的衍射光學元件（DOE），這些元件在人臉識別技術中起到關鍵作用。通過納米壓印技術，能夠在基材上形成微米或納米級的復雜光學結構，用于光束整形和衍射，從而提升人臉識別設備的成像質量和識別精度。

1.2 Diffuser（擴散元器件）

該設備適用于生產光學擴散器，通過壓印形成均勻的微納結構，實現光的散射和擴散。這種擴散元器件廣泛應用于照明系統、顯示技術以及激光散射領域，能夠有效改善光分布均勻性。

1.3 AR波導片

在增強現實（AR）領域，可用于制造波導片，通過納米壓印技術在基材上形成特定的微納結構，用于光的傳輸和耦合。這種高精度波導片是AR眼鏡和頭顯設備的核心組件，能夠提升虛擬影像的清晰度和視場角。

1.4 微透鏡陣列

能夠壓印出微透鏡陣列，即由多個微米級透鏡組成的結構。 這種陣列廣泛應用于光學傳感器、成像系統和光通信領域，可實現光線的聚焦、分束或準直，提升設備的光學性能。

1.5 微流控芯片

在生物醫學和化學分析領域，該納米壓印機可用于制造微流控芯片。 通過壓印形成微米或納米級的通道和結構，用于精確控制微量液體的流動、混合和反應，適用于疾病診斷、藥物篩選和單細胞分析等應用。

6. 微針

還能生產微針陣列，即表面帶有微米或納米級針狀結構的器件。 這種微針可用于無痛藥物傳遞、疫苗接種或生物傳感，通過壓印技術實現高密度、高精度的針尖制造，提升穿刺效率和生物相容性。

二、納米壓印機特點

● 桌面型，4/6/8英寸可選

● 熱壓印＜230℃，誤差±2℃

● 真空環境作業，＜1mbar

● 可壓印分辨率＜50nm圖案

三、納米壓印機技術參數

可實現圖案轉移分辨率：分辨率<50nm，可同時實現UV紫外固化和熱壓印兩種模式；

壓印精度控制及均勻性：在紫外固化模式下，可實現5:1深寬比，優異的壓印高度均勻性；

熱壓印：230℃；100°C/min升溫速度；可以根據壓印材料，通過軟件實現不同溫度控制；

UV光源：配置i-line 365nm光源，光源能量值可達400mW/cm2；

壓力控制：真空腔≤100Pa；氣壓腔0.0-0.3bar，采用進口干泵機；

壓印平臺：平整度TTV<5μm，確保長期的高精度、高穩定性；

檢測模塊：配置氣壓及溫度檢測模塊,與軟件配套，可實現特定環境的控制；

通訊接口：USB2.0標準計算機與儀器通訊接口；

壓印室尺寸：直徑~105mm，高度~12mm（4寸）；

支持自定義 ：可根據客戶壓印材料不同，控制不同氣溫，UV紫外照射時間及量；

應用軟件

操作控制：提供簡單易操作的控制流程，同時支持管理員模式更改個別需求參數；

實時監控：監控壓印腔體內的溫度、壓力數據，實時反映在監控軟件上。