目前，越來越多的原子力顯微鏡被引入到各項研究中，但是相信很多科研人員會發現，做了幾次樣品后，針尖或者懸臂梁總會有東西粘附上去了，圖像質量和原來的形貌出入太大，沒有多少細節，甚至出現雙針尖現象，這個時候，被污染的針尖已經嚴重影響到實驗。而AFM探針針尖應該怎樣清洗才合適呢，這個問題一直困擾著科研人員。粒子探針一般采用的是紫外臭氧清洗技術來清洗有機物，紫外臭氧技術*是光子輸出，對探針表面不會造成任何損傷，是一種溫和的清洗方法。PSD和PSDP系列紫外臭氧系統通過產生185nm和2...

納米制造使用光刻工藝(193nm，EUV，EBL等)涉及廣泛的材料、技術和相關的處理步驟，以便生產明確的納米結構。光刻膠的光刻對比曲線是工藝優化的參數之一。光致抗蝕劑的對比度曲線是顯影后剩余的抗蝕劑膜厚度，作為對數繪制的曝光劑量的函數[1]。測量方法:在本篇應用案例中，使用EBPG-5000+電子束工具以100千電子伏的速度在不同的曝光劑量下對負性抗蝕劑進行曝光，生成100×100μm正方形的陣列，每個正方形對應不同的曝光劑量。在顯影步驟之后，使用FR-μ探針顯微光譜儀工具在...

鈣鈦礦廣泛用于太陽能電池的開發。由于這些類型的太陽能電池具有良好的光伏性能，因此對它們進行了系統的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態是影響太陽能電池性能的重要因素。人們發現，特別當鈣鈦礦的厚度小于400nm時，鈣鈦礦太陽能電池的效率很大程度上取決于薄膜厚度；而當鈣鈦礦的厚度大于400nm時，效率則很大程度上取決于鈣鈦礦層的薄膜形態。在本篇方案說明中，我們使用FR-pRoVIS/NIR測量鈣鈦礦薄膜的厚度。FR-pRoVIS/NIR測量方法：用于表征的樣品是兩種不同厚度的CH3NH3...

簡介硅基底的傳感器因其高性能、低成本和小尺寸而廣泛應用于不同的MEMS微機電系統。懸浮在圖案上的硅膜或基于SOI的傳感器上的活性硅層的厚度對于控制最終平臺的性能至關重要[1]。在這里，我們已經在一個MEMS微機電系統壓力傳感器上測量了硅薄膜厚度，使用的是孔徑為250μm的FR-μProbe，該工具安裝在一個徠卡分模光學顯微鏡上。使用10倍物鏡進行測量，該物鏡與選定的孔徑大小一起對應于25μm的光斑大小(測量區域)。使用內部光源將FR-μProbe安裝在光學顯微鏡上測量方法獲得...

具有可控和可調節表面化學性質的清潔表面對于改善材料的界面，生物和電子性能，以獲得*佳的設備和結構性能至關重要。等離子體表面處理可去除納米級有機污染物，并在不影響整體材料的情況下改變表面化學性質。等離子清洗的好處等離子體清潔是通過化學反應（O2或空氣等離子體）或物理消融（Ar等離子體）去除有機污染物。等離子體處理還在表面上引入了化學官能團（羰基，羧基，羥基），使大多數表面具有親水性，水接觸角的減小和潤濕性的提高。清潔且親水的表面通常對于促進附著力和增強與其他表面的粘合至關重要。...

WABASH平板硫化機主要用于硫化平型膠帶（如輸送帶、傳動帶，簡稱平帶），它具有熱板單位面積壓力大，設備操作可靠和維修量少等優點。平板硫化機的主要功能是提供硫化所需的壓力和溫度。壓力由液壓系統通過液壓缸產生，溫度由加熱介質（通常為蒸汽）所提供。平帶平板硫化機按機架的結構形式主要可分為柱式平帶平板硫化機和框式平帶平板硫化機兩類；按工作層數可有單層和雙層之分：按液壓系統工作介質則可有油壓和水壓之分。WABASH平板硫化機操作方法：1、按模具尺寸和規定的單位壓力調整壓力表，嚴禁超壓...

MC應用｜Harrick等離子清洗機PDMS鍵合小能手！HarrickPlasma→PDMSBonding，時長00:14應用領域聚（二甲基硅氧烷）（PDMS）是基于硅酮的有機聚合物，因其低成本和多功能性而廣泛用于專業和學術研究實驗室。PDMS是惰性的，透明的，可通過軟光刻輕松定制，該技術用于成型PDMS并將納米級特征和微通道壓印到其表面上。Harrick等離子清洗機可去除有機污染物并激活PDMS表面，以用于與玻璃，PDMS或其他經過類似處理的表面進行粘合。PDMS鍵合于微流...