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    當前位置:首頁   >  產品中心  >  光刻膠  >  Futurrex光刻膠  >  ma-N 2400、mr-EBLMicro Resist電子束及深紫外光刻膠

    Micro Resist電子束及深紫外光刻膠

    簡要描述:德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠,除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外,還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。

    • 產品型號:ma-N 2400、mr-EBL
    • 廠商性質:代理商
    • 更新時間:2024-05-17
    • 訪  問  量:3232

    詳細介紹

    德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠,除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外,還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。

    ma-N 2400系列   

    電子束和深紫外曝光 

    電子束和深紫外靈敏;非常適合作為刻蝕掩模,*的抗干刻、濕刻性能;膠圖案良好的熱穩定性;優異的圖案分辨率-50 nm以下;堿性水溶液下顯影;

    mr-EBL 6000

    電子束曝光

    電子束和深紫外靈敏;非常適合作為刻蝕掩模,*的抗干刻、濕刻性能;光膠圖案良好的熱穩定性;優異的圖案分辨率-80 nm以下;堿性水溶液下顯;

     

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