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光刻膠SPR955 MEGAPOSIT SPR955-CM系列光刻膠是一種通用的、高分辨率的i-Line光刻膠，可用于0.35µm的前端和后端應用。也與底層膠LOR/PMGI-SF搭配，做lift-off 工藝

AZ1500系列G線光刻膠高感光度標準G線正型光刻膠 為廣泛應用于半導體制造領域而優化的高感光度G線正型光刻膠 特征： 1) 高感光度,高產出率 2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進 3) 廣泛應用于*半導體行業

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AZ1500系列G線光刻膠高感光度標準G線正型光刻膠 為廣泛應用于半導體制造領域而優化的高感光度G線正型光刻膠 特征： 1) 高感光度,高產出率 2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進 3) 廣泛應用于*半導體行業

AZ1500系列i線光刻膠高感光度標準G線正型光刻膠 為廣泛應用于半導體制造領域而優化的高感光度G線正型光刻膠 特征： 1) 高感光度,高產出率 2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進 3) 廣泛應用于*半導體行業

shipley s1813光刻膠 S1800系列， 正膠、紫外光刻膠。 光源推薦：g-Line，也可以用于寬譜。 單層厚度：0.4-2.7um。 型號： S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2 應用： 應用于濕法腐蝕和干法刻蝕，也與底層膠LOR搭配，做lift-off 工藝。