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    • 238正膠顯影液TMAH  四甲基氫氧化銨
      

      


      正膠顯影液TMAH  四甲基氫氧化銨  能選擇性地溶解未曝光的光刻膠，留下已曝光部分形成所需的圖形，從而將掩膜版上的圖案精確轉移到硅片等襯底材料上。同時，它還可用于硅片的濕法刻蝕，對硅等材料進行腐蝕加工，制作微機電系統（MEMS）結構，如加速度計、壓力傳感器等。
      

      

      

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      產品價格：面議
      

      廠商性質：代理商
      

      更新日期：2025-08-05
      

      

      

      


      

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