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    NXQ掩膜對準曝光機

    簡要描述:MYCRO*美國恩科優N&Q系列光刻機(Mask Aligner),是*的光刻系統,在光刻領域有超過35年的經驗,售出1000多套設備,為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統,廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。

    • 產品型號:NXQ400-8
    • 廠商性質:代理商
    • 更新時間:2024-05-16
    • 訪  問  量:3397

    詳細介紹

    品牌:恩科優(N&Q

    產地:美國

        恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中,N&Q4000系列光刻機是以半自動系統為主。該系統*的操作性,超高的分辨率,均勻的光學系統,現代*接近式和接觸式光刻及超高的性價比,使恩科優光刻系統已經被全國各地眾多著名企業、研發中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統的*;

    二、技術參數:

    1、芯片尺寸:5mm~150mm的圓片/方片和不規則碎片(支持對不規則碎片的特殊卡盤設計);

    2、曝光波長:350nm-450nm(其它波長可選配);

    3、汞燈功率:350W/500W(其它功率可選配);

    4、分辨率:優于0.5um;

    5、曝光模式:支持接近式曝光,各種接觸式(真空接觸、軟接觸、硬接觸等)曝光;

    6、出射光強范圍:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm

    7、支持恒定光強或恒定功率模式;

    8、曝光時間:0.1~999.9s;

    9、對準精度:雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監視器,對準精度可達到0.4微米內;

    10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉換器)

    11、光強均勻性Uniformity

    <±1% over 2 區域;

    <±2% over 4 區域;

    <±3% over 6 區域;

    12、雙面光刻:具備背面紅外對準(IR BSA)和光學背面對準(OBS BSA),雙面對準精度≤2μm;

    13、電源:高靈敏度光強可控電源。

    可選型號:

    NXQ400-6 

    NXQ400-8

    NXQ800-6

    NXQ8006 Sapphire

    NXQ800-8

    三、產品特點:

    可選支持單面對準和雙面對準設計;

    高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場顯微鏡鏡頭(基于無限遠修正的CCD鏡頭設計);雙頭高清全彩物鏡(單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇);

    高清彩色雙顯示屏;

    全新氣動軸承導軌設計,高精準,低磨損,無需售后維護的;

    具有自動執行楔形誤差補償,并在找平后自動定位功能;

    操作簡易,具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面;

    操控手柄調控模式的*設計;

    采用LED穿透物鏡照明技術,具有*對準亮度;

    采用基于無限遠修正的顯微鏡鏡頭架構;

    抗衍射反射的高效光學光路設計;

    帶安全保護功能的溫度和氣流傳感器;

    全景準直透鏡光線偏差半角: <1.84度;

    設備穩定性,耐用性超高;

    http://v.youku.com/v_show/id_XMzM2NzUyODYw.html

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