韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī)

簡(jiǎn)要描述：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。

產(chǎn)品型號(hào)：L-100和M-100
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2024-05-17
訪問(wèn) 量：1935

產(chǎn)品咨詢聯(lián)系我們

產(chǎn)品分類

掩膜曝光光刻機(jī)

Mask Aligner光刻機(jī) Mask Aligner系列 NXQ系列查看全部產(chǎn)品

相關(guān)文章

詳細(xì)介紹

L-100

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。L-100專為4英寸晶圓而設(shè)計(jì)，具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對(duì)準(zhǔn)器有一個(gè)365nm的UV LED光源。365nm處的光功率為20mW/cm 。可用于商業(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實(shí)驗(yàn)室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。

技術(shù)參數(shù)

類型	PLC手動(dòng)控制系統(tǒng)	波長(zhǎng)	365 nm
掩膜版尺寸	5英寸	紫外光強(qiáng)度	20 ?
基片尺寸	4英寸晶圓	紫外線光束均勻度	≤3 %
分辨率	1 ?	接觸模式	真空/硬/軟
對(duì)準(zhǔn)精度	1 ?	顯微鏡	雙CCD變焦顯微鏡
		選配項(xiàng)	Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA

M-100

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。M-100專為4英寸晶圓而設(shè)計(jì)，具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對(duì)準(zhǔn)器有一個(gè)350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm 。可用于商業(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實(shí)驗(yàn)室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。

技術(shù)參數(shù)

類型	PLC手動(dòng)控制系統(tǒng)	波長(zhǎng)	350 ~ 450 nm
掩膜版尺寸	最大5*5英寸	紫外光強(qiáng)度	15 ~ 25/ ?
基片尺寸	4英寸晶圓	紫外線光束均勻度	3 ~ 5 %
分辨率	1 ?	接觸模式	真空/硬/軟/接近
對(duì)準(zhǔn)精度	1 ?	顯微鏡	雙CCD變焦顯微鏡
紫外燈和電源	350W	選配項(xiàng)	Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA

產(chǎn)品咨詢

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細(xì)地址：
補(bǔ)充說(shuō)明：
驗(yàn)證碼：

請(qǐng)輸入計(jì)算結(jié)果（填寫阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

上一篇：PZ pro 35德國(guó)Harry Gestigkeit精密加熱臺(tái)
下一篇：M-150和P-150韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī)

韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī)

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細(xì)地址：

補(bǔ)充說(shuō)明：

驗(yàn)證碼：