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詳細介紹
概括
真空回流焊爐配備有一個由實心鋁制成的熱板，上面涂有陶瓷。另一個水冷板安裝在熱板下方。在冷卻時，將冷板抬起并壓在熱板上，從而迅速冷卻。此功能還可以在真空下進行冷卻。
技術指標
真空回流焊爐
工藝環(huán)境： | 氮氣，惰性氣體，甲酸 |
Z高溫度： | 400℃ |
加熱面積： | ∅200mm |
加熱板： | 固定：鋁 |
加熱板上方的間隙： | 50mm |
加熱/冷卻斜坡： | 120-150℃/分鐘 |
控制偏差： | +/-0.5℃ |
加熱元件： | 集成在加熱板上的線圈加熱器 |
加熱控制： | 所有加熱器通用 |
加熱板冷卻： | 舉起冷盤 |
溫度測量： | 1x固定和多3x自由定位熱電偶K型 |
壓力測量： | 集成壓力變送器 |
Z大真空度： | 5x10-2mbar |
甲酸起泡器： | 40毫升容器，集成在前面板中 |
箱體冷卻： | 水/乙二醇-一體式冷水機 |
蓋觀察口： | 80mm |
顯示： | 7英寸液晶觸摸屏 |
電腦軟件： | 工藝記錄，配方傳輸等 |
用戶界面： | 繼電器I/O的遠程控制 |
外型尺寸： | 見布局 |
重量: | 35公斤 |
電源供應: | 220V，50Hz |
主營產品：
Laurell勻膠機
Harrick等離子清洗機
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺
ALD原子層沉積系統
TRION反應離子刻蝕機
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機
Novascan紫外臭氧清洗機
Nilt納米壓印機
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統，濕站系統
Wabash/Carver自動壓片機
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