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    光刻機Aligner MMA

    簡要描述:MYCRO*荷蘭(光刻機Aligner MMA16),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦

    • 產(chǎn)品型號:MMA16
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時間:2024-05-17
    • 訪  問  量:2516

    詳細介紹

    一、產(chǎn)品簡介:

    MYCRO*荷蘭MMA16光刻機(Mask Aligner)是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學等等。

    光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中MMA16掩碼對準器是一種高性能掩碼對準器,已經(jīng)過驗證的組件設(shè)計。該系統(tǒng)是一個理想的經(jīng)濟選擇研發(fā),或有限的規(guī)模,試生產(chǎn)。我們采用了一種創(chuàng)新的系統(tǒng),使基板快速而輕柔地拉平,在接觸曝光過程中實現(xiàn)平行光掩模對準和在晶圓上均勻接觸。該系統(tǒng)具有一微米的分辨率和校準精度。

    MMA16的特點是一個可靠的紫外線光源,提供準直紫外線在近或深紫外光使用燈。雙傳感器、光反饋回路與恒定強度控制器相連,可將曝光強度控制在所需強度的±2%以內(nèi)。可以快速而容易地改變UV波長。這是一個靈活,經(jīng)濟的解決方案,任何入門級口對準和紫外線曝光應(yīng)用。

    MMA16面罩對準器軟件的特點是易于理解和Z越的人機工程學,減少了操作人員的培訓(xùn)時間,使其更容易與系統(tǒng)一起工作

    二、技術(shù)參數(shù):

    1、光掩模的尺寸:5英寸大;

    2、晶片大小:大4英寸(無定形);

    3、掩模架滑動:手動卡盤;

    4、模板移動:X=±3mm, Y=±3mm;

    5、曝光方法:支持接近式曝光,各種接觸式(軟接觸/硬接觸/間隙印刷/真空接觸/低真空接觸)曝光;

    6、照明:250W超高壓燈

    7、照明不均勻性:±5%

    8、有效接觸面積:直徑100毫米

    9、分辨率:3mµL/S

    10、對齊方法:通過攝像頭查看

    11、對齊物鏡:10 x(上/下)

    12、總放大倍率:100 x

    13、物鏡分離:15˜90毫米

    14、對準范圍:X,Y=±4毫米

    15、對準間隙:99年09年µm

    16、對準精度:小于±5毫米

    17、主機電源:220/50Hz, 16A (600W)

    18、氮氣:0.4˜0.5 Mpa

    19、真空壓力:小于21.3kPa(大氣壓-80kPa)

    20、主機尺寸:高度712mm×寬度700mm×深度 440mm

    21、凈重:約250Kg

    三、產(chǎn)品特點:

    高分辨率打印

    高精度X,Y,對準臺和顯微鏡操縱器

    高強度光學配置

    不同紫外線照射波長

    低限度的操作員培訓(xùn)

    人體工學操作

    易于理解用戶界面

    易于進行所有組件的組裝

    掩模對準器

    無需預(yù)熱時間

    價格低

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