真空快速退火爐

AS-Micro真空快速退火爐，性能，可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃，zui快升溫速率250℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過(guò)沖，控溫精度準(zhǔn)確。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、 紅外鹵素?zé)艄芗訜幔鋮s采用風(fēng)冷（低噪音水平，無(wú)需壓縮空氣）；

2、加熱由功率控制而非電壓控制，避免了由于燈絲老化電阻改變導(dǎo)致的后續(xù)使用中加熱不均的問(wèn)題，保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性，即使在后續(xù)使用過(guò)程中更換了部分新的燈管也可以達(dá)到初的熱處理效果；

3、石英腔體，腔體冷卻采用水冷，冷壁設(shè)計(jì)，雙層不銹鋼；

冷壁水冷技術(shù)優(yōu)點(diǎn)在于：1、無(wú)記憶，2、工藝重復(fù)性高，3、冷卻速度快；

4、反應(yīng)腔室的設(shè)計(jì)，氣體的進(jìn)入口設(shè)計(jì)在wafer的表面，避免在退火過(guò)程中冷點(diǎn)的產(chǎn)生。很好的保證了樣品在加熱過(guò)程中的均溫性；

5、快速數(shù)字PID控溫；

6、熱電偶設(shè)計(jì)上采用中間和邊緣安裝模式，測(cè)試的樣品的溫度，控溫精準(zhǔn)；

7、大氣和真空工藝均適合，凈化氣體配針閥；

8、zui多3工藝氣體，配數(shù)字質(zhì)量流量控制器；

9、電腦通過(guò)以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度；

10、可選配石墨托盤(pán)表面涂SiC薄膜設(shè)計(jì)，用于小樣品測(cè)試；

11、可選配分子泵，用于高真空測(cè)試；

12、可選配雙腔體設(shè)計(jì), 達(dá)到高潔凈工藝，避免交叉污染。

產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)配置及規(guī)格參數(shù)：

1、樣品大尺寸：3-inch；

2、紅外鹵素?zé)簦?/span>6支； 大功率：15KW；

3、紅外鹵素?zé)衾鋮s方式：風(fēng)冷；

4、溫度范圍：室溫~1250 ℃；

5、升溫速率：0.1 ℃~250 ℃/s ；

6、溫度控制：快速數(shù)字PID控制；

7、熱電偶：2N型熱電偶；

8、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計(jì)：壓力：2bars，zui多可配置3路； 

9、配置真空泵及真空規(guī)：真空度：10e-3 Torr；（分子泵選配10e-6 Torr）

10、尺寸：700*700*750mm (W*D*H)； 重量：凈重82Kg；