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    快速退火爐

    簡要描述:美國RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%,處理的大尺寸可以達(dá)到200mm,溫度可以達(dá)到1200攝氏度,處理過程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行,做多可支持4~6路進氣,可以用到的氣體包含N2,O2,N2H2,Ar和H2。

    • 產(chǎn)品型號:Solaris 150UV
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時間:2024-05-17
    • 訪  問  量:2123

    詳細(xì)介紹

    基于PID處理控制器的Solaris GUI可以存儲程序,每套程序可以支持高達(dá)100個步驟的設(shè)定,帶USB2.0的接口。包含Solaris GUI 軟件,與微軟Windows操作系統(tǒng)兼容。通過該軟件,通過鏈接電腦可以非常方便地實現(xiàn)程序編輯以及數(shù)據(jù)記錄。

     

    技術(shù)規(guī)格:

    - 溫度:1200攝氏度;

    - 升溫速率:150攝氏度/秒;

    - 溫控均勻性:±2.5℃設(shè)定溫度;

    - 加熱方式:紅外鹵素?zé)簦敳考暗撞繀^(qū)域加熱;

    - 處理時間:0.1秒至無*;

    - 燈管數(shù)量及功率:13支,

    - 腔體冷卻:風(fēng)冷方式;

    - 襯底冷卻:氮氣吹掃;

    - 工藝氣路:MFC控制,多6 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等)

    型號

    Solaris 100

    Solaris 150

    Solaris 150UV

    Solaris 200

    Solaris Eclipse

    處理大樣品尺寸

    100mm

    150mm

    150mm

    200mm

    200mm

    溫度()

    室溫~1200/s

    室溫~1200/s

    室溫~1200/s

    室溫~1200/s

    室溫~1200/s

    工藝氣體

    1~4

    1~6

    1~6

    1~6

     

    紅外鹵素?zé)?/span>

    13

    21

     

    28

     

    紅外鹵素?zé)衾鋮s方式

    風(fēng)冷

    風(fēng)冷

    風(fēng)冷

    風(fēng)冷

    風(fēng)冷

    溫度控制

    PID數(shù)控

    PID數(shù)控

    PID數(shù)控

    PID數(shù)控

    PID數(shù)控

    溫度精度

    ±2

    ±2

    ±2

    ±2

    ±2

    熱電偶

    K型熱電偶

    K型熱電偶

    K型熱電偶

    K型熱電偶

    K型熱電偶

    臭氧功能

     

     

    有,蝕刻速率> 25-50A /min

     

     

    機器外觀

    臺式機

    臺式機

    臺式機

    臺式機

    臺式機

     

    應(yīng)用領(lǐng)域:

    快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

    快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

    快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

    硅化 (Silicidation);

    擴散 (Diffusion);

    化合物半導(dǎo)體退火 (Compound Semiconductor Annealing);

    離子注入后退火 (Implant Annealing);

    電極合金化 (Contact Alloying);

    晶向化和堅化 (Crystallization and Densification);

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